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☞ 하구언
공사 바닷물을 막아 염해가 없는 용수를 지속적으로 보유하거나 물을 저수하여 이용할 목적으로 만드는 수자원 개발시설. 이 공사로 하구언 위쪽지역에서 어패류가 자취를 감추는 등 어업에 지대한 영향을 끼친다. 또 하구언에서 물을 저장하면 하류쪽에 물이 없어지게 되어 하구가 폐쇄되며 상류 하천의 수위가 상승함으로써 지하수위가 상승하고 내수 배제가 곤란하게 되는 등 피해가 발생한다.

☞ 하 수
오수나 빗물 및 공장의 폐수등의 총칭.가정 오수는 수세식 변소의 배설물 등을 포함하며 위생적인 배려를 필요로 하지만 처리는 쉽다. 공장에서 나오는 폐수는 수량도 많고 수질적으로도 처리장에서의 처리가 어려워 발생원에서의 처리가 필요하다. 빗물은 부정기적이며 대량적인 것이 특징이다.

☞ 하수 오니
처리사업 하수오니를 농축, 세정, 약제 첨가, 탈수, 소각하여 그양을 줄이고 안정, 무해화하는 일을 오니 처리라고 한다.

☞ 하수처리법
일반적인 처리법으로는 하수중에 포함되어 있는 부유물질을 스크린이나 침사지에 의한 물리적방법으로 제거하고, 다음에 용해성의 불순물을 미생물의 힘을 빌어 침전 분리시키고, 상등수는 염소소독 후에 하천이나 바다로 방류하며, 하수처리시 나오는 오니는 따로 매립한다. 그 밖에 침강을 빠르게 하기 위하여 응집제를 사용하는 방법이 있고, 하수의 성질이나 처리량에 따라서 여러 가지 설비가 쓰이고 있다. 하수 처리법의 기본적인 과정을 나타낼 때 최초 침전 후에 방류하는 처리를 1차 처리라고 말하며, 다음에 활성오니법이나 살수여상법등의 생물 처리를 가한 처리를 2차 처리라고 말한다. 더욱더 수질을 높일 필요가 있을 때는 3차 처리를 행한다.

☞ 하이테크
반도체, 뉴 세라믹, 바이오테크놀로지 등의 고도첨단기술을 보통 하이테크라고 부른다. 컴퓨터, 워드프로세서. 컴퓨터 게임기. 퍼지 세탁기, 바이오 제품 등이 대표적인 하이테크 제품이다. 하이테크는 생활을 편리하게 해주기도 하지만, 한편으로는 하이테크 공해라는 부작용을 낳고 있다. 예컨대 반도체(IC)는 컴퓨터. TV, 자동차, 의료기기, 로봇, 장난감 등에 사용되며, 하이테크 산업의 기초를 형성하고 있다. 그러나 IC 공장에서는 다량 다종의 화학물질이 사용되고 있는데, 세정용으로 쓰이는 트리클로로에틸렌이나 1,1,1-트리클로로에탄 등 유기염소계 용제로 공장주변의 지하수 오염, 프레론 113에 의한 대기오염이 발생하는 것으로 밝혀졌다. 대부분의 하이테크 제품은 그 사용과정의 효능만을 과대하게 선전하고 있으나 어떠한 제품이든지 생산, 소비, 폐기라는 과정이 있고, 각각의 과정에서 발생되는 오염의 실태를 명확히 할 필요가 있다. 디스크나 테이프의 기억용량이 비약적으로 신장되면 기록용 종이나 책은 없어질 것이라는 예측도 있다. 그러나 사무자동화로 컴퓨터 관계 기기의 종이 사용량이 엄청나게 늘어나면서 사무실에서 나오는 종이폐기물은 급증하는 추세다. 가정용 전기제품, 장난감의 IC화로 소형화, 휴대화가 진전되고 있으나 휴대화로 인한 전지의 소비는 급증하고 있다. '고립계에서 엔트로피는 증가한다' 라는 열역학 제2법칙은 '어떠한 제품도 언젠가는 폐기물이 된다' 는 것을 증명하고있다. 하이테크화가 제품의 라이프 사이클을 단축시키고 자원재생을 어렵게 만든다는 점도 중요한 문제다.

☞ 하이테크공해
반도체(IC)는 고순도 실리콘에 미량의 인 등 불순물을 첨가해 그 표면에 미세한 전자 패턴을 붙여 회로를 만들어 간다. 2백56kb(킬로비트)의 IC 칩에는 1백30가지의 제조 공정이 있으며, 그 중 30가지가 세정공정이다. IC의 집적화가 진행되면 될수록 회로의 최소 패턴은 1Mb(메가비트)에서 1u(미크론) 정도로 작아진다. 최소패턴 10분의 1이라도 불순물이 부착되면 제품으로 생산될 수 없으므로 세정은 대단히 중요한 공정이다. 실리콘 웨하에서 유분이나 불순물을 제거하기 위해 트리클로로에틸렌, 1,1,1-트리클로로에탄, 테트라클로로에틸렌 등의 유기용제가 사용된다. 이러한 용제에는 발암성이나 간장, 신장에 영향을 주는 독성이 있다. 1981년 미국 실리콘 바레에 있는 페어차일드사 주변에서 유기용제에 의한 지하수 오염이 발견되었다. 그 후 실리콘 바레에서는 IBM을 비롯하여 65개 사에서 지하수 오염이 판명되었는데 대부분이 용제 저장 탱크에서의 누출이 원인으로 보고되었다. 1985년 1월, 캘리포니아 주 정부는 실리콘 바레 주변에 사는 주민을 대상으로 3년 동안 조사한 건강피해 결과를 발표하였다. 그 조사에 따르면 식료수가 용제로 오염된 지구의 주민 중에서 선천 이상아 출생률, 유산발생률은 다른 지구와 비교하여 2∼3배나 높은 것으로 밝혀졌다. 일본에서도 1983년 12월 도시바 전기 공장의 IC 세정소로부터 트리클로로에틸렌에 의한 지하수 오염이 발견되었다.